程秀兰
，博士，博士生导师，研究员（微电子学与固体电子学），平台主任（先进电子材料与器件校级平台）。
主要研究方向：先进微纳加工技术，薄膜铌酸锂光电子器件，基于氮化硅平台的无源器件开发与研究，硅基光探测器、调制器等有源器件制备与研究，高阶衍射光学元件设计与加工，CMOS集成电路130nm工艺开发。曾参与并承担863、02专项等多个国家重大科研项目子项目的研究。同时长期从事本科及研究生专业课程教学工作，所授课程包括：《半导体物理与器件》、《半导体器件原理》、《先进微纳加工技术与应用》、《集成电路制造技术》、《半导体集成电路制造理论》、《微电子材料与器件特性的表征》、《微电子可靠性与成品率》等。
先后曾在铁道部戚墅堰机车车辆工艺研究所、上海贝岭股份有限公司、中芯国际集成电路制造有限公司（SMIC）逻辑技术发展与制造中心工作，从事技术研发工作。2009-2010年先后至美国University of Arkansas （UARK）及University of California at Berkely (UC Berkeley) 访问研究，分别从事纳米孔DNA/生物大分子检测、片上集成纳米级单生物分子检测应用的表面等离子体波传感器等方面的研究。
学术研究：
1. 先进微纳加工技术
2. 薄膜铌酸锂光电子器件
3. 基于氮化硅平台的无源器件开发与研究
4. 硅基光探测器、调制器等有源器件制备与研究
5. 高阶衍射光学元件设计与加工
6. CMOS集成电路130nm工艺开发
授课教学：
《半导体物理与器件》（48学时），全日制硕博士，春季学期
《先进微纳加工技术与应用》（48学时），全日制硕博士，春季学期
主要论文
1. Yang S, Li Y, Xu J, et al. Low loss ridge-waveguide gratingcouplers in lithium niobate on insulator[J]. Optical Materials Express, 2021,11(5): 1366-1376.
2. Yang S, Li Y, Xu J, et al. Sub-wavelength Gratings AssistedRidge Waveguide Surface Couplers on Lithium Niobate Thin Film[C]//2021 OpticalFiber Communications Conference and Exhibition (OFC). IEEE, 2021: 1-3.
3. Yang S, Xu J, Wu L, et al. High Coupling-EfficiencyRidge-Waveguide Gratings on Single Crystal Thin-Film Lithium Niobate(TFLN)[C]//CLEO: Applications and Technology. Optical Society of America, 2021:JW1A. 78.
4. Yang S, Xu J, Li Y, et al. Thin-film lithium niobateridge-waveguide grating couplers integrated with anti-reflection slotsinterface[J]. Optical Materials, 2021, 118: 111229.
5. Wang X, Wang W, Li Y, et al. Low Power and Compact SiliconThermo-Optic Switch Based on Suspended Phase Arm Without Support Beams[J]. IEEEPhotonics Technology Letters, 2020, 32(19): 1281-1284.
6. Qu M, Xu J, Tian M, et al. Ten-nanometer-depth lithiumniobate nanostructures with sub-nanometer surface roughness[J]. Journal ofMicromechanics and Microengineering, 2020, 30(10): 105009.
7. Qu M, Shen Y, Wu L, et al. Homogenous and ultra-shallowlithium niobate etching by focused ion beam[J]. Precision Engineering, 2020,62: 10-15.
8. Wang X, Xu J, Quan X, et al. Fast fabrication of siliconnanopillar array using electron beam lithography with two-layer exposuremethod[J]. Microelectronic Engineering, 2020, 227: 111311.
9. Wang X, Quan X, Liu M, et al. Silicon-nitride-assisted edgecoupler interfacing with high numerical aperture fiber[J]. IEEE PhotonicsTechnology Letters, 2019, 31(5): 349-352.
